セッションオーガナイザー:田川精一(阪大産研・教授)
松井真二(兵庫県大高度産業科学技術研・教授)
現在の情報化社会を支える半導体製造分野では、微細化(高集積化)のための露光源の短波長化が推し進められ、波長193 nmのArFエキシマレーザーと液浸技術を組み合わせた液浸リソグラフィの次はExtreme Ultraviolet (EUV, 13.5 nm)光が露光源として期待されている。露光源の短波長化は高エネルギー化を意味し、EUVでは材料のイオン化エネルギーを越え、電離放射線領域に入るため材料化学の観点から新たな展開が求められている。さらに、過去半世紀の光リソグラフィ開発の流れとは一線を画するナノインプリント技術が近年注目を集めているが、ナノインプリント技術は、EUVリソグラフィを含め従来型のリソグラフィが制御に苦労しているラインエッジラフネス(LER)と呼ばれるパターンのナノ形状の制御において優位性を持ち今後の発展が期待されている。これらの微細加工技術を材料面から見たときに、両技術とも従来型の材料から大きな飛躍があり、今後の展開が興味深い。
「EUVリソグラフィ」のセッションでは、現在実用化されている液浸露光技術やダブルパターニング技術の紹介も織り込みながら、「超ファインパターン形成技術」の全体像を概説する。さらにレジスト材料を中心に、EUVリソグラフィ開発の最先端の取り組みを紹介する。EUVリソグラフィ用材料に課せられている要求は、感度、解像度、LERの制御のすべてにおいて、材料の極限に迫るものである。ここにおいて像形性反応が分子の選択的電子励起から開始されていた従来の材料から、非選択的イオン化を中心とした新しい材料が求められ、ブレークスルーが期待される本分野の将来について活発に議論する場を提供したい。
「ナノインプリント」のセッションでは、これまでの半導体リソグラフィプロセスとは全く異なる超ファインパターン形成技術であるナノインプリントの材料・プロセス・装置の最近の進展とデバイス応用展開について紹介する。まず、ナノインプリント研究の世界的動向について紹介し、材料・プロセスの研究開発最前線、量産化装置開発の現状、さらに量産化が、確実視されているパターンドメディア等への応用事例について、紹介し、本分野の現状と将来について活発に議論する場を提供したい。
- EUVリソグラフィ
- 基調講演 EUVリソグラフィ開発の現状(半導体先端テクノロジーズ・研究部長)森 一朗
- 招待講演 EUVレジスト材料・プロセス開発状況(半導体先端テクノロジーズ・グループリーダー)井谷 俊郎
- 招待講演 EUVレジスト中での潜像形成機構の研究(阪大産研・准教授)古澤孝弘
- 招待講演 JSRにおけるEUVリソグラフィー材料の開発(仮題)(JSR半導体材料研究所・所長)下川 努
- 招待講演 富士フイルムにおけるEUVレジスト材料開発の取組み(富士フイルム・研究担当部長)大島 直人
- 招待講演 東京応化工業のEUV材料開発(東京応化工業・部長)小野寺 純一
- 依頼講演 新規低分子化合物を用いた高感度分子レジストの開発(東芝研究開発センター・東芝セミコンダクター社)○服部 繁樹・斎藤 聡・浅川 鋼児・小柴 健・中杉 哲郎
- 依頼講演 ArFダブルパターニング用ネガ画像形成材料開発(富士フイルム・主任研究員)樽谷 晋司
- 依頼講演 32nmノード以降に向けたダブルパターニング材料開発(JSR半導体材料研究所・副主任研究員)藤原 考一
- ナノインプリント
- 基調講演 世界におけるナノインプリント技術開発動向 (兵庫県大高度産業科学技術研・教授) 松井 真二
- 招待講演 ナノインプリントにおける樹脂成型過程と樹脂特性 (阪府大院工・教授) 平井義彦
- 招待講演 光ナノインプリントリソグラフィ (産総研先進製造プロセス・主任研究員) 廣島 洋
- 招待講演 高分子ブロック共重合体薄膜の化学的自己組織化制御による微細パターン形成 (日立材料研・京大院工・日立GSTサンノゼリーチ) ○吉田 博史・多田 靖彦・赤坂 哲・Ricardo,
Ruiz・Elizabeth, Dobisz・Dan, Kercher・竹中 幹人・長谷川 博一・Thomas R. Albrecht
- 招待講演 ナノインプリントプロセスの実用化展開(プロセス装置の現状と課題)(東芝機械微細転写事業部・事業部長/微細転写技術部長)後藤博史
- 依頼講演 東京応化のナノインプリント材料(東京応化工業先端材料開発二部・課長)高木 利哉
- 依頼講演 光ナノインプリント用石英モールド(HOYAR&Dセンター・センター長)流川 治
- 依頼講演 ナノインプリント用モールドの作製例(NTT-ATナノファブリケーション営業部・営業部長)出口 公吉
- 依頼講演 UVナノインプリント材料(ダイセル化学工業有機合成カンパニー)○三宅弘人・湯川隆生・伊吉就三
|