日本化学会誌 (化学と工業化学)


--Nippon Kagaku Kaishi--

1999, No. 9, 9月

Copyright 1999 by the Chemical Society of Japan


--総 合 論 文--

カチオン性ヒドリドルテニウム錯体触媒を用いた γ-ブチロラクトンの新規製造法
原善則・宮沢千尋・高橋和成・和田啓輔
567

--一 般 論 文--

ゾル-ゲル法による Ca0.5Sr0.5S ・ 0.001CeS2 蛍光体薄膜の低温合成
盛屋考治・龍川佳浩・豊田昌宏・森茂龍一
577

水溶性カリックスアレーンとメチルトリオクチルアンモニウム塩化物を用いる Zr4+ マトリクス中の Ti4+ の高選択的溶媒抽出精製法
西田正志・園田美和子・石井大道・吉田烈・中島靖
583

RuO2/Al2O3 触媒による希薄 NH+4 の湿式酸化分解
林弘・宇埜正浩・千代味智也・杉山茂
589

--技 術 論 文--

コバルト(II)錯体を用いた酸素促進輸送膜の酸素窒素分離特性に及ぼす軸配位子の影響
山之内昭介・岡部和弘・塩谷優・桜井博志
595

酸化重合剤の光化学変化を利用した導電性高分子パターンの作製方法
大西保志・成瀬勉・吉元昭二・木村和幸・夏目幸洋
601

トリプトファンシンターゼによる L--トリプトファン合成に対する溶融インドールの逐次添加効果
瀬戸孝俊・今成真
609

d-リモネンを用いた再生ポリスチレンの力学的性質
野口勉・宮下真由美・渡辺春夫
615

--ノート--

タヒボ茶水抽出物の吸湿・保湿能
下古谷博司・鈴木郁功・国枝義彦・辻出豊・土江陽子・鈴木慈郎
621

ジフェニルホスフィナートを新規脱離基に用いるグリコシル化反応
門川淳一・江花淳・長岡毅・烏マサ・多賀谷英幸・千葉耕司
625